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HYPOAllergenic Base & Primer Pore Correcting Primer

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Información del producto
Denominación del producto
Pore Correcting Primer,
Línea
Base & Primer
Sublínea
Maquillaje facial
Ingredientes
Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Glycerin, Cyclohexasiloxane, PEG/PPG-18/18 dimethicone, Titanium dioxide (nano), Methyl Methacrylate Crosspolymer, Nylon-12, Propylene Glycol, Stearoyl Inulin, Butylene Glycol, Dimethicone Crosspolymer, Hydrogen Dimethicone, dimethiconol, Polysorbate 80, Litchi Chinensis Pericarp Extract, Trimethoxycaprylylsilane, Tocopheryl Acetate, Sodium Chloride, Ethylhexylglycerin, Hydrated Silica, Aluminum Hydroxide, Phenoxyethanol, CI 77491, CI 77492, CI 77499 (Iron Oxides)

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