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HYPOAllergenic Base & Primer Moisturizing Primer

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Información del producto
Denominación del producto
Moisturizing Primer,
Línea
Base & Primer
Sublínea
Maquillaje facial
Ingredientes
Ingredients: Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Cyclohexasiloxane, PEG-10
Dimethicone, Glycerin, Xylitylglucoside, Disteardimonium Hectorite, Aloe
Barbadensis Leaf Juice, Anhydroxylitol, Sodium Acrylates Copolymer,
Polymethylsilsesquioxane, Polysorbate 80, Stearoyl Inulin, Xylitol, Lecithin
Sodium Hyaluronate, Tocopherol, Ethylhexylglycerin, Triethoxycaprylylsilane,
Trimethoxycaprylylsilane, Mica, Tin Oxide, Phenoxyethanol, Potassium
Sorbate, Sodium Benzoate, CI 77491 (Iron Oxides), CI 77891 (Titanium
Dioxide)

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