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Información del producto

Aplicación

Ingredientes

Información del producto

Denominación del producto

Mascarilla de ácido hialurónico,

Línea

Dive In Low Molecular

Sublínea

Colección

piel

piel seca, todos los tipos de piel

Propiedades

calmante, hidratante, regenerador

Tipo de producto

Mascarilla, Pañuelo

Área de aplicación

Cara

Acabado

radiante

Aplicación

1. Aplicar la mascarilla sobre el rostro después de la limpieza.

2. retirar después de 15 - 20 minutos y aplicar suavemente la esencia restante.

Ingredientes

Water, Butylene Glycol, Glycerin, Dipropylene Glycol, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Sodium Hyaluronate, Sodium Acetylated Hyaluronate, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid(100Ppm), Panthenol, Trehalose, Allantoin, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Calendula Officinalis Flower Extract, Melia Azadirachta Leaf Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Coccinia Indica Fruit Extract, Solanum Melongena (Eggplant)Fruit Extract, Ocimum Sanctum Leaf Extract, Curcuma Longa(Turmeric) Root Extract, Corallina Officinalis Extract, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Pvm/Ma Copolymer, Saccharide Isomerate, Carbomer, Xanthan Gum, Tromethamine, Pentylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Portulaca Oleracea Extract, Malachite Extract, Ethylhexylglycerin.